染料

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    MEKICRON BLUE BG bs

    產品簡介



    濃度% Depth
    2.0


    染料類型 Energy Type
    S


    PH範圍 PH stability
    4-9


    日曬牢度(氙燈)
    Xenon-Arc Light
    1/3
    7


    1/1
    >7


    水洗 Washing
    4


    昇華牢度 Sublimation
    3-4


    汗漬 Perspiration
    酸性 Acid
    4-5


    鹼性 Alkaline
    4-5


    還原物敏感
    Reduction Material
    ++
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    MEKICRON BLUE ACE bs

    產品簡介



    濃度% Depth
    0.3


    染料類型 Energy Type
    E


    PH範圍 PH stability
    4-10


    日曬牢度(氙燈)
    Xenon-Arc Light
    1/3
    5-6


    1/1
    6


    水洗 Washing
    4


    昇華牢度 Sublimation
    4


    汗漬 Perspiration
    酸性 Acid
    4-5


    鹼性 Alkaline
    4-5


    還原物敏感
    Reduction Material
    ++
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    MEKICRON BLUE UNSE bs

    產品簡介



    濃度% Depth
    1.5


    染料類型 Energy Type
    SE


    PH範圍 PH stability
    4-8


    日曬牢度(氙燈)
    Xenon-Arc Light
    1/3
    5


    1/1
    5-6


    水洗 Washing
    3-4


    昇華牢度 Sublimation
    3


    汗漬 Perspiration
    酸性 Acid
    3-4


    鹼性 Alkaline
    4


    還原物敏感
    Reduction Material
    ++
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    NAVY BLUE CBN.png

    MEKICRON NAVY BLUE CBN bs

    產品簡介



    濃度% Depth
    3.0


    染料類型 Energy Type
    S


    PH範圍 PH stability
    4-9


    日曬牢度(氙燈)
    Xenon-Arc Light
    1/3
    5


    1/1
    6


    水洗 Washing
    4


    昇華牢度 Sublimation
    3


    汗漬 Perspiration
    酸性 Acid
    4


    鹼性 Alkaline
    4


    還原物敏感
    Reduction Material
    ++
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    MEKICRON NAVY BLUE PRSF bs

    產品簡介



    濃度% Depth
    3.0


    染料類型 Energy Type
    S


    PH範圍 PH stability
    4-7


    日曬牢度(氙燈)
    Xenon-Arc Light
    1/3
    5


    1/1
    5-6


    水洗 Washing
    3-4


    昇華牢度 Sublimation
    3-4


    汗漬 Perspiration
    酸性 Acid
    4


    鹼性 Alkaline
    3-4


    還原物敏感
    Reduction Material
    ++
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    MEKICRON BLUE WXF bs

    產品簡介



    濃度% Depth
    3.0


    染料類型 Energy Type
    S


    PH範圍 PH stability
    4-4.5


    日曬牢度(氙燈)
    Xenon-Arc Light
    1/3
    5


    1/1
    6


    水洗 Washing
    3-4


    昇華牢度 Sublimation
    4


    汗漬 Perspiration
    酸性 Acid
    4


    鹼性 Alkaline
    4


    還原物敏感
    Reduction Material
    -